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      第四章 半导体二极管、三极管和场效应管    
    4.4.2 场效应晶体管      
 
(3)漏源电压uDS对漏极电流iD的影响
    当uDS较小,即uGD>>UT时,沟道宽度受uDS的影响很小,沟道电阻近似不变,iD随uDS的增加呈线性增加。
当u
DS增大时,沟道各点与栅极间电压不等,使沟道从源极向漏极逐渐变窄。随着uDS增大,沟道电阻迅速增大,iD不再随uDS线性增大。
继续
增大uDS ,则uGD <UT,夹断区增加,增加的uDS电压几乎全部降落在夹断区上,所以uDS虽然增加而电流基本上是恒定的。
 
                         
(二)N沟道增强型MOS管的特性曲线                          
1.输出特性          
输出特性是指uGS为一固定值时,iD与uDS之间的关系,即                
                   
  (1)可变电阻区(非饱和区)        
    Ⅰ区对应预夹断前,uGS>UT,uDS很小,uGD>UT的情况。  
  (2)恒流区(饱和区)      
Ⅱ区对应 预夹断后,uGS>UT,uDS很大,uGD<UT的情况。  
(3)截止区  
该区对应于uGS≤UT的情况    
2.转移特性
转移特性是指uDS为固定值时,iD与uGS之间的关系,即      
       
 
特点:当FET工作在恒流区,不同uDS的转移特性曲线基本接近。  
     

 

 

 

(UGS>UT  
     
 
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